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湿法去胶机所用原辅料

湿法去胶机所用原辅料一般包括有机氯杀菌剂、润湿剂、阴离子表面活性剂、氯离子表面活性剂、氧化剂等。

一、有机氯杀菌剂

有机氯杀菌剂是一种使用广泛，去除细菌效果良好的氯类杀菌剂。它具有杀灭细菌、抑制有害微生物生长的功能，可有效杀灭集聚性及空气悬浮性的病原微生物，而不对人体和动物造成影响，是生产过程中预防细菌污染的有效手段之一。有机氯杀菌剂也可以直接作用于细菌的质壁，破坏细菌的基本功能，从而达到消除细菌的目的。

二、润湿剂

润湿剂是一种主要用于为未来的清洗操作增加润湿性质的物质。在保持稳定的温度和质量的情况下，它可以迅速升至被清洁表面的表面，为清洗作业提供充足的润湿性能。润湿剂可以结合灰尘和其他污染物，有效地降低表面的活性，以便清洗作业取得最佳效果。同时，它还能够有效地增加清洗过程中有用的活性物质的吸附和浓度，从而使清洗作业更加有效。

三、技术实现

一种干湿法结合去胶工艺，其工艺步骤为：s1、基板准备：选取尺寸4寸-12寸硅晶元的一种作为基板，基板表面做抛光处理；s2、光刻胶涂覆：通过旋涂的方式将光敏胶均匀涂覆在基板表面，并使用曝光显影的方式使需要镀膜的区域裸露出来；s3、镀膜：通过pvd或者cvd的方式在基板表面沉积膜层，完成镀膜；s4、湿法去胶：采用浸泡去胶液的方式对成膜后的基板进行初步去胶，初步去胶时间1-2小时；s5、干法刻蚀：将初步去胶后的基板放入干刻机通入高纯度的氧气以及氩气进行干法刻蚀快速去除剩余光敏胶的残留胶液，干法刻蚀时间3-10分钟，完全去除光敏胶，完成整个干湿法结合去胶工艺。